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產(chǎn)品型號
HMDS8-2 -
廠商性質(zhì)
生產(chǎn)廠家 -
更新時間
2026-05-11 -
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產(chǎn)品描述
HMDS增粘涂膠機應(yīng)用于在勻膠前的硅片等基片表面均勻涂布一層HMDS（六甲基二硅氮烷）。作用：降低HMDS處理后的硅片接觸角，進而降低勻膠時光刻膠在硅片表面鋪展開的難度，提高光刻膠與硅片的黏附性，降低光刻膠的用量。
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產(chǎn)品分類
產(chǎn)品型號
HMDS8-2廠商性質(zhì)
生產(chǎn)廠家更新時間
2026-05-11瀏覽次數(shù)
2684產(chǎn)品描述
HMDS增粘涂膠機應(yīng)用于在勻膠前的硅片等基片表面均勻涂布一層HMDS（六甲基二硅氮烷）。作用：降低HMDS處理后的硅片接觸角，進而降低勻膠時光刻膠在硅片表面鋪展開的難度，提高光刻膠與硅片的黏附性，降低光刻膠的用量。
產(chǎn)品型號
SHD8-SE廠商性質(zhì)
生產(chǎn)廠家更新時間
2026-05-11瀏覽次數(shù)
3406產(chǎn)品描述
全柜式涂膠顯影一體機概述： SHD8-SE涂膠顯影系統(tǒng)一體機主要由勻膠單元、烤膠單元、顯影單元等部分組成，該設(shè)備針對高校研究所實驗室，特點是占地面積小，性價價比更高。整機采用框架結(jié)構(gòu)，外表為不銹鋼或者PP，無塵且不吸附顆粒，采用7寸操作界面控制，帶FFU、上排風(fēng)接口、腔體為黃色燈、重力排廢接口、且每個模塊均可獨立工作，操作方式為手動上下樣品。
產(chǎn)品型號
MSD-200D廠商性質(zhì)
生產(chǎn)廠家更新時間
2026-05-11瀏覽次數(shù)
2321產(chǎn)品描述
桌上型自動顯影機MSD-200D主要應(yīng)用于曝光后的顯影工藝。該設(shè)備主要由顯影腔單元、自動擺臂單元、以及供液系統(tǒng)、主軸系統(tǒng)、控制系統(tǒng)及排液系統(tǒng)等組成，整機采用框架結(jié)構(gòu)，外表為鏡面不銹鋼，無塵且不吸附顆粒，工作方式為手動上下片，自動完成顯影工藝。 桌上型成像儀顯影單元基片采用真空吸附加四周擋板固定方式，采用進口伺服電機，保證轉(zhuǎn)速、加速度、控制精度高，重復(fù)性好；供液系統(tǒng)采用廠務(wù)或者壓力容器直接供液方式。
產(chǎn)品型號
MSC-200T-D廠商性質(zhì)
生產(chǎn)廠家更新時間
2026-05-11瀏覽次數(shù)
2241產(chǎn)品描述
自動滴膠勻膠機，MSC-200T-D桌上型半自動旋轉(zhuǎn)涂布機用于對均勻性和一致性要求較高的表面涂布工藝，將光刻膠溶液自動涂覆在硅片、磷化銦、碳化硅、氮化鎵、鈮酸鋰、光柵、ITO、掩模版等基片上形成薄膜，主要應(yīng)用于6、8寸晶圓及方形樣品。將基材涂上一層特定的光刻膠、感光涂料或油墨， 取出后在進行后道烘干工藝。
產(chǎn)品型號
MSC系列廠商性質(zhì)
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1968產(chǎn)品描述
勻膠機設(shè)備簡介： 桌上型旋轉(zhuǎn)涂布機，用于對均勻性要求較高的表面涂布工藝，將光刻膠溶液手動涂覆在硅片、磷化銦、碳化硅、氮化鎵、鈮酸鋰等基片上形成薄膜，主要應(yīng)用于12寸以內(nèi)樣品。
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