產品分類
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產品型號
HMDS8-2 -
廠商性質
生產廠家 -
更新時間
2026-05-11 -
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產品描述
HMDS增粘涂膠機應用于在勻膠前的硅片等基片表面均勻涂布一層HMDS（六甲基二硅氮烷）。作用：降低HMDS處理后的硅片接觸角，進而降低勻膠時光刻膠在硅片表面鋪展開的難度，提高光刻膠與硅片的黏附性，降低光刻膠的用量。
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產品型號
HMDS8-2廠商性質
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2685產品描述
HMDS增粘涂膠機應用于在勻膠前的硅片等基片表面均勻涂布一層HMDS（六甲基二硅氮烷）。作用：降低HMDS處理后的硅片接觸角，進而降低勻膠時光刻膠在硅片表面鋪展開的難度，提高光刻膠與硅片的黏附性，降低光刻膠的用量。
產品型號
SHD8-SE廠商性質
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3408產品描述
全柜式涂膠顯影一體機概述： SHD8-SE涂膠顯影系統一體機主要由勻膠單元、烤膠單元、顯影單元等部分組成，該設備針對高校研究所實驗室，特點是占地面積小，性價價比更高。整機采用框架結構，外表為不銹鋼或者PP，無塵且不吸附顆粒，采用7寸操作界面控制，帶FFU、上排風接口、腔體為黃色燈、重力排廢接口、且每個模塊均可獨立工作，操作方式為手動上下樣品。
產品型號
MSD-200D廠商性質
生產廠家更新時間
2026-05-11瀏覽次數
2322產品描述
桌上型自動顯影機MSD-200D主要應用于曝光后的顯影工藝。該設備主要由顯影腔單元、自動擺臂單元、以及供液系統、主軸系統、控制系統及排液系統等組成，整機采用框架結構，外表為鏡面不銹鋼，無塵且不吸附顆粒，工作方式為手動上下片，自動完成顯影工藝。 桌上型成像儀顯影單元基片采用真空吸附加四周擋板固定方式，采用進口伺服電機，保證轉速、加速度、控制精度高，重復性好；供液系統采用廠務或者壓力容器直接供液方式。
產品型號
MSC-75T廠商性質
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2026-05-11瀏覽次數
2226產品描述
鈣鈦礦旋涂儀應用：在高速旋轉的基片上，滴注各類膠液，利用離心力使滴在基片上的膠液均勻地涂覆在基片上，厚度視不同膠液和基片間的粘滯系數而不同，也和旋轉速度及時間有關。應用：在高速旋轉的基片上，滴注各類膠液，利用離心力使滴在基片上的膠液均勻地涂覆在基片上，厚度視不同膠液和基片間的粘滯系數而不同，也和旋轉速度及時間有關。
產品型號
MSC-200T-D廠商性質
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2026-05-11瀏覽次數
2242產品描述
自動滴膠勻膠機，MSC-200T-D桌上型半自動旋轉涂布機用于對均勻性和一致性要求較高的表面涂布工藝，將光刻膠溶液自動涂覆在硅片、磷化銦、碳化硅、氮化鎵、鈮酸鋰、光柵、ITO、掩模版等基片上形成薄膜，主要應用于6、8寸晶圓及方形樣品。將基材涂上一層特定的光刻膠、感光涂料或油墨， 取出后在進行后道烘干工藝。
